بررسي تاثير تركيب ليتوگرافي سطح و الكتروديپوزيشن بر روي فرايند جوشش استخري

كارشناسي ارشد

امروزه بحث انتقال حرارت به صورت جوشش به دليل كاربرد هاي متنوع آن مورد توجه زيادي قرار گرفته است. با توجه به پيشرفت هاي اخير در زمينه ساخت سطوح ميكرو/نانو ساختار پيشرفت¬هاي عمده¬اي براي استفاده از اين سطوح در بهبود فرايند تغيير فاز ايجاد شده است. تحقيقات اخير مهمترين پارامترهاي سطح در فرايند تغيير فاز را تخلخل و ترشوندگي دانسته¬اند. پارامتر تخلخل بر روي ديناميك حباب، سايت¬هاي هسته¬زايي و تبخير ميكرو لايه اثرگذار است. در اين پژوهش تلاش شده است كه فرايند جوشش و پارامترهاي موثر بر آن و نيز بهبود فرايند به طور مبسوط شرح داده شود. به منظور بهبود عملكرد، به كمك روش فتوليتوگرافي و تركيب آن با الكترونشست سطوح ميكرو/ نانو ساختار ايجاد شد. در قسمت اول كار با روش فتوليتوگرافي پنج سطح مختلف با الگوهاي متفاوت ايجاد شد، كه از بين سطوح، سطح شماره 5 با الگوي فين¬هاي مربعي درشت¬ به ابعاد 60 ميكرومتر با بهبود 178% ضريب انتقال حرارت به عنوان بهترين سطح انتخاب شد. در قسمت دوم كار نيز با تركيب حكاكي¬تر ليتوگرافي و الكترونشست شش سطح متفاوت ايجاد شد، كه از ميان آنها سطح شماره 4 با الگوي شيارهاي عريض موازي الكترونشست شده به اندازه 2.5 ميليمتر با بهبود 181% ضريب انتقال حرارت به عنوان بهترين سطح انتخاب شد.

193947

دانشگاه علم و صنعت ايران

تبديل انرژي - علوم حرارتي

دكتر حميد صفاري